头孢塞污钠研磨分散机

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{别名}

头孢氨噻肟、氨噻肟头孢菌素、头孢泰克松、西孢克拉瑞、 头孢噻肟、塞福隆；凯福隆；凯帝隆； 氨噻肟头孢 菌素钠;泰可欣;先锋噻肟 、先锋龙
【外文名】Cefotaxime Sodium , Claforan, CTX,Ceforan, HR-756, Zariviz 
【作用与用途】 
本品第三代半合成头孢菌素，抗菌谱比头孢呋肟广，对革兰阴性菌的作用更强，但对阳性球菌不如第代与第二代头孢菌素对绿脓杆菌与厌氧菌仅有低度抗菌作用.抗菌谱包括嗜血性流感杆菌、肠杆菌、沙门杆菌克雷白产气杆菌属及奇异变形杆菌、奈瑟菌属、葡萄球菌、肺炎球菌、链球菌等。临床上主要用于各敏感菌的感染，如呼吸道、五官、腹腔、胆道、脑膜炎、淋病、泌尿系统感染、皮肤软组织感染、创伤及术后感染、败血症等。

【用法用量】
1.肌注或静注，成人，中等度感染，1g/次，1次/12小时；严重感染8g～12g/日，分3～4次；儿童每日100mg～150mg/kg，分2～4次；新生儿每日50mg/kg，分2～4次。本品亦可供静滴，宜用1g～2g溶于生理盐水或葡萄糖注射液中稀释，在20～60分钟内滴注完毕。 
2.肌内注射:成人一次0.5～1g，每日3～4次。静脉滴注:(药典规定静脉滴注一日2～3g)临床常用每次1～2g，每日3～4次，必要时每4小时一次。 
小儿:每日50～100mg/kg(体重)，分3～4次给药。 
头孢塞污钠研磨分散机NKD2000系列研磨分散设备是shsina（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
NKD2000系列的特点：

①   线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

• 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

技术参数